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產(chǎn)品中心

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槽式濕法制程設(shè)備

全自動槽式清洗機(jī)

擁有多項自主知識產(chǎn)權(quán),可應(yīng)用于RCA清洗工藝、濕法刻蝕工藝、金屬層濕法刻蝕工藝、爐管前清洗工藝及其它特殊工藝清洗需求、設(shè)備采用模塊化設(shè)計,易于維護(hù)。

搭載藥液濃度實時監(jiān)控及高效回收系統(tǒng),提高藥液使用率。

可以搭載超聲波、兆聲波以及槽體流場控制技術(shù),最佳化清洗能力。

柔性化設(shè)計,系統(tǒng)自動排程,多工位并發(fā)處理,實現(xiàn)高效率運行。

軟硬件互鎖安全裝置,溫度自動校準(zhǔn)及過溫保護(hù),確保人員及機(jī)臺安全。

可搭配一鍵換酸、Auto Pm等功能,提升機(jī)臺維護(hù)效率。

多組機(jī)械手系統(tǒng)傳遞,支持“干進(jìn)干出”需求,提高潔凈度要求。

產(chǎn)品詳情

                適用制程
     Wafer Clean,Etch,PR Strip
                適用尺寸     4/6/8/12 inch
                承載方式     標(biāo)準(zhǔn)Cassette、Loadport

                工藝指標(biāo)

                工藝指標(biāo)

     表面顆粒:≤300顆/片          -@0.1-0.2μm Small Particle

表     面顆粒:≤5-10顆/片          @0.3μm Particle

     金屬殘留:≤5E10 atoms/cm2

                軟件支持     GEM/SECS接口,提供EAP MES等功能