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單片濕法制程設(shè)備

半自動(dòng)單腔光刻版清洗機(jī)

半自動(dòng)單腔光刻版清洗機(jī)通過浸潤、Brush刷洗,配合ACE/IPA沖洗,兆聲清洗,可以有效去除光刻版表面光刻膠殘留,并對光刻版表面進(jìn)行清洗。

設(shè)備主要由工藝腔體、升降掃描擺臂模塊、刷洗擺臂模塊、供排液系統(tǒng)、空氣凈化及靜電消除系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、中央控制系統(tǒng)等組成。工藝腔體可配置Brush刷洗、ACE清洗、IPA清洗、兆聲清洗、氮?dú)獯祾摺⒌獨(dú)獯蹈?、離心甩干等功能。

兼容多種規(guī)格尺寸的光刻板

分層式腔體設(shè)計(jì)

采用干進(jìn)干出加工模式

化學(xué)液可循環(huán)再利用

低藥液消耗

小型化設(shè)計(jì),滿足實(shí)驗(yàn)室需求

產(chǎn)品詳情

                適用制程
     Mask Clean
                適用尺寸     4&6inch,6&8inch
                上料類型     Open Cassette

                 化 學(xué) 品

     ACE/NMP/EKC/IPA

                 顆 粒 物     ≤30ea @0.2μm
                 破 片 率     ≤0.1‰