半自動(dòng)單腔光刻版清洗機(jī)通過浸潤、Brush刷洗,配合ACE/IPA沖洗,兆聲清洗,可以有效去除光刻版表面光刻膠殘留,并對光刻版表面進(jìn)行清洗。
設(shè)備主要由工藝腔體、升降掃描擺臂模塊、刷洗擺臂模塊、供排液系統(tǒng)、空氣凈化及靜電消除系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、中央控制系統(tǒng)等組成。工藝腔體可配置Brush刷洗、ACE清洗、IPA清洗、兆聲清洗、氮?dú)獯祾摺⒌獨(dú)獯蹈?、離心甩干等功能。
? 兼容多種規(guī)格尺寸的光刻板
? 分層式腔體設(shè)計(jì)
? 采用干進(jìn)干出加工模式
? 化學(xué)液可循環(huán)再利用
? 低藥液消耗
? 小型化設(shè)計(jì),滿足實(shí)驗(yàn)室需求
適用制程 | Mask Clean |
適用尺寸 | 4&6inch,6&8inch |
上料類型 | Open Cassette |
化 學(xué) 品 | ACE/NMP/EKC/IPA |
顆 粒 物 | ≤30ea @0.2μm |
破 片 率 | ≤0.1‰ |
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