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通過旋轉(zhuǎn)式刷頭及二流體，配合DIW可以有效去除晶圓上殘留的物理顆粒，主要用于CMP后清洗及過程清洗。

? 可兼容多種規(guī)格晶圓

? 具備刷頭自清潔功能

? 可選擇配置濕進(jìn)干出活干進(jìn)干出

? 獨(dú)立翻轉(zhuǎn)模塊，可實(shí)現(xiàn)晶圓正反面自動(dòng)翻轉(zhuǎn)并清洗

? 在線式藥液配比功能

? 腔室數(shù)量2/4/6/8可靈活配置

? 優(yōu)秀的清洗效果

? 多種安全檢測，不易產(chǎn)生碎片