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采用多層腔體結(jié)構(gòu)，配合旋轉(zhuǎn)式刷頭、二流體、兆聲及多種藥液，可以有效去除晶圓上的物理顆粒及金屬離子殘留，主要用于晶圓制造的最終清洗、CMP后清洗、擴(kuò)散前清洗、刻蝕后清洗、標(biāo)準(zhǔn)RCA、去膠清洗、鍍膜前后清洗等。

? 可兼容多種規(guī)格晶圓

? 具備刷頭自清潔功能

? 腔體分層可做到4層，可實現(xiàn)3種藥液的回收

? 獨立翻轉(zhuǎn)模塊，可實現(xiàn)晶圓正反面自動翻轉(zhuǎn)并清洗

? 在線式藥液配比功能

? 腔室數(shù)量2/4/6/8可靈活配置

? 多種安全檢測，不易產(chǎn)生碎片